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花键管液态硼渗[工艺代号535-03(B)]工艺守则(1)工艺特点，20#精密异型管液态硼渗的渗硼剂由供硼剂、还原剂、活化剂等组成。一般可分为以内两类：1)用硼砂(包括硼酐、硼酸)作供硼剂，另加少量碳化硅、硅钙铁、硅铁、锰铁、铝、硅、镁等作还原剂(熔盐-熔盐)。二是用B4C作供硼剂，用硼砂、氯化物作还原剂(盐卤)。 渗硼盐浴比卤化盐浴稳定，且能溶解金属氧化物，使花键精密异形无缝管表面清洁，有利于渗入元素的吸附扩散。且渗层比较致密(无严重的孔洞和疏松)，盐浴无污染，因而应用广泛。但是，其缺点是盐浴粘度大，流动性比卤浴差，花键精密异形无缝管损耗大，附着在花键精密异形无缝管表面的盐难于清除。液态渗硼因其原料经济，供应充足，设备简单，操作方便，可直接淬火，适合于批量生产，是目前广泛采用的渗硼工艺之一。
但是，这种方法存在着残盐附着于花键精密异形无缝管表面难以清理、坩埚寿命短、渗硼层质量难以控制等缺点。当前硼砂用盐浴渗硼的配方较多，且各有特点，下面介绍几种，供选择时参考：1)以硼砂为基料，以碳化硅为还原剂。该制剂成本低，盐浴稳定性好，能得到单相的Fe2B渗层。但是流动性稍差，花键精密异形无缝管粘着残盐量大，花键管清洗困难。以硼砂为基料，以铝粉为还原剂。该盐浴流动性好，活性强，无需频繁更换新盐，渗层为双相结构。
